電磁屏蔽材料屏蔽效能取決于材料的電導率、磁導率及結構等。結構包括材料本身的表面結構和人工設計結構。基于多孔性結構和多層結構材料是增加反射損耗的有效方式。

1）多孔結構設計。當材料中氣孔結構的存在時，材料的波阻抗與外界空氣接近，入射的電磁波會在多孔屏蔽體的孔道中發生多次反射，增加了對電磁波的吸收損耗，同時也降低了材料的密度。通過優化孔結構、形狀、大小、分布，以及孔隙表面改性等，提高吸收損耗和多次反射衰減。

2）多層結構設計。多層結構設計如：堆疊具有相同濃度的填料的不同聚合物復合材料層，略微提高電磁屏蔽性能；同一填料含量從一層逐漸增加到下一層，減少界面差異，限制反射率，提高電磁屏蔽性能；堆疊含不同填料復合材料層，實現較寬頻率范圍的電磁屏蔽。通過優化梯度分布多層結構設計、蜂窩設計等多層設計，實現阻抗匹配，提高吸收損耗和多次反射衰減。

3）復合填料優化。納米填料復合、分散、取向是影響電磁屏蔽效能的因素。若在孔壁富集導電填料，增加導電通路，明顯增大導電性，也是提高復合電磁屏蔽材料的屏蔽性能的有效方式。通過優化碳系、金屬系、鐵氧體等導電納米填料和磁性納米填料的用量、形態、改性、分散、分布、經電場磁場取向等，提高吸收損耗、反射損耗以及增強協同效應。

   電磁屏蔽材料向高屏蔽、寬頻、質輕等方向發展。可通過多孔結構、多層結構設計，納米導電填料和導磁填料等改性、分散、復合、取向的協同作用，實現電磁屏蔽阻抗匹配、高電磁屏蔽性能。在軍事領域和民用領域有良好的市場前景和應用價值。